上海微电子申请激光退火方法及设备专利，保证基底全片的退火均匀性

金融界2025年7月10日消息，国家知识产权局信息显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司申请一项名为“激光退火方法及设备”的专利，公开号CN120280337A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种激光退火方法，将一基底设置于运动台上，将第一激光和第二激光投影至所述基底上，所述第一激光与所述第二激光投影在所述基底上的光斑在扫描方向上具有重叠区域，以对所述基底进行退火，测量所述基底在所述第一激光和/或所述第二激光的照射处的温度，并根据测量温度调整所述第一激光和/或所述第二激光的能量。本发明通过测量温度对所述第一激光和/或所述第二激光的能量进行闭环控制，保证了所述基底全片的退火均匀性。相应的，本发明还提供了一种激光退火设备。

天眼查资料显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司，成立于2002年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本26612.41万人民币。通过天眼查大数据分析，上海微电子装备（集团）股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目144次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息2943条，此外企业还拥有行政许可108个。

来源：金融界